清洗的步骤过程是什么，其中碱洗的目的是什么

清洗的步骤过程是什么，其中碱洗的目的是什么
APM溶液由一定比例的NH4OH溶液、H2O2溶液组成，硅片表面由于H2O2氧化作用生成氧化膜（约6nm呈亲水性），该氧化膜又被NH4OH腐蚀，腐蚀后立即又发生氧化，氧化和腐蚀反复进行，因此附着在硅片表面的颗粒和金属也随腐蚀层而落入清洗液内。此处产生氨气和废氨水。
清洗有酸洗和碱洗，酸一般为硝酸或者盐酸，碱一般为硼砂。退火的方法为将热电偶悬空架在支架上，对不同电极施加10.5A到11A的电流。这样做的目的是消除热电偶内部的应力，使其金相更为规律。