光电效应是指当一束光照射到金属表面时，若光的频率达到一定值，就会使金属表面上的电子将完全从金属原子表面逸出。此时，生成的电流称为光电流。但是，光电流并不是一直增加的，它在一定条件下会饱和，即不能再继续增加。造成光电流饱和的主要原因包括以下几点：
1. 能带结构：照射到材料上的光子会激发材料的电子，使得它们跃迁到传导带中，从而形成光电流。但是，由于材料的能带结构限制了电子的能量，当电子的能量足够高时，会达到能带顶部，不再受限制而逸出, 但当光子频率不变(光强I变化)时，金属表面上所需的电子数时有限的，一些高能电子能分流回去或失去能量再次碰撞到固体表面没有逸出。
2. 空间电荷限制：随着电子数量的不断增加，产生的空间电荷也会不断增加。其间互相斥力，会抑制其他电子的运动，因此光电流在达到一定值后就会饱和。
3. 饱和功函数：金属吸收光的频率越高，逸出电子的能级越高，需要克服的势能就越大，以钨为例，当光子能量较高时，克服孔中瓯状势垒的电子会发生反弹，在期望线外产生一定数量的回跳电子，这样的逸出模式是不稳定的，光电流也就难以继续增加。
总之，光电流的饱和是由于光子的能量和频率限制、空间电荷效应以及固体内部多种复杂相互作用共同影响所致。
