冷发射和热发射是指在发射电子的过程中，电子所具有的能量状态不同。以下是它们之间的不同之处：
1. 温度: 冷发射是指在低温条件下电子由金属表面发射出来，而热发射则是在高温下电子从金属表面释放出来。
2. 能量: 冷发射中电子的能量低，而热发射时电子的能量很高。
3. 机制: 冷发射是依靠隧穿效应实现的，而热发射则是依靠光热效应实现的。
4. 应用: 冷发射技术主要应用于场发射显示器、场发射真空微电子学和场发射离子源等领域，而热电子发射主要应用于X射线管、扫描显微镜等技术领域。
5. 工艺: 冷发射需要较为先进的工艺技术支持，在纳米材料制备、超快激光脉冲等领域有广泛的应用；而热发射技术成熟，其实现方式与普通的金属电子枪相似。
